一个纯粹的铸造厂
MEMS和薄膜器件

光刻

MMD™的g线光刻工具集专为MEMS生产量身定制。我们的全自动生产线能够处理不透明,透明和半透明基材;以及多个光刻胶工艺。 Arobust,双层抗蚀剂用于剥离处理。接触,接近和步进器对准和曝光能够解析小至0.7μm的特征。 IR背面对齐用于双面光刻。

功能

  • 积极的抵制
  • 双层剥离抗蚀剂
  • 厚和双层涂层抗蚀剂(4-22μm)
  • 接触对齐和曝光
  • 接近对齐和曝光
  • 步进器对齐和曝光
  • 背面红外对准和曝光
  • SU-8处理
Photolithography1